关于光刻机不卖给中国的现象，其成因可归纳为以下三点：

一、美国政策限制的核心原因

美国出于维护自身科技霸权与产业安全的战略考量，禁止向中国出口EUV光刻机。这一决策背后是长期积累的科技竞争与地缘政治博弈，而非单纯的市场经济原则。美国通过此举限制中国高端制造业的发展，试图保持技术优势。

二、全球市场需求的转移与ASML的困境

全球需求萎缩

2024年，全球EUV光刻机需求出现显著下滑，不仅第一代产品滞销，第二代2纳米产品也面临无人问津的困境。

ASML的依赖与无奈

ASML作为全球唯一掌握EUV技术的公司，原本计划凭借技术垄断获取高额收益。然而，面对全球需求萎缩和中国市场的特殊限制，其出口策略陷入两难。

三、潜在的替代方案与未来展望

荷兰、日本的竞争与策略

荷兰、日本等光刻机厂商可能通过调整出口政策或技术合作，探索除中国之外的市场机会，但短期内难以完全弥补对中国的依赖。

中国本土化替代路径

中国正在加大半导体产业链自主化投入，通过政策扶持与产业链协同，逐步突破光刻机技术瓶颈，未来可能减少对外部技术的依赖。

综上，光刻机不卖给中国的现象是政策干预与市场供需共同作用的结果，未来需关注技术突破与市场策略调整对这一局面的影响。